国产光刻机刚宣布研发成功 ASML就开始低价抛售(图)

一提到困扰国产芯片的最大难题，国人首先想到的就是光刻机了，目前在芯片制造领域不断有新的技术被突破，但唯一让国内企业无能为力的就是对于光刻机的制造了，荷兰的ASML垄断了全球的市场，不仅以高价出售，而且是有钱都不一定能够买到的。

而荷兰ASML技术负责人更是直接表态：“就算把全套图纸给我们，我们也造不出一模一样的光刻机。”经过仔细分析之后还的确是这样的现状，光刻机的制造集结了全球最为顶尖的科技，而大部分采用的都是美国的技术，这也是光刻机的自由出货受制于美国的原因。



目前最为先进的EUV光刻机，在生产过程中需要用到十几万个零部件，供应商就多达五千多家，而且每个零部件都要经过成千上万次的调试，就算是ASML也需要进口超过90%以上的零部件和先进技术。

中企完成对于光刻机技术的突破在以前我们也觉得以我们目前的工业实力，不可能完成这样的壮举，直到相关限制的到来，一切都发生了微妙的变化。

在相关限制之下，面对美国的百般刁难，国内的企业也彻底觉醒了，从而激发了自主创新的斗志，在两年的时间里国内的芯片企业取得了非常不错的成绩，在制造芯片最重要的三大仪器光刻机、刻蚀机、离子注入机上，都已经取得了相应的技术突破。



目前上海微电子已经正式官宣，已经掌握了对28纳米光刻机的制造工艺，令人没想到的是国产光刻机刚宣布研发成功，ASML就宣布恢复对于中国光刻机的供应，并且还有意降低28纳米光刻机的价格，这显然是得到了某些人的授意，目的就是想提前占据中国市场，并试图打压国产光刻机的发展。

这次让美国失望了费尽周折想要限制中国半导体行业的发展，本以为控制了光刻机就能够万事无忧了，没想到即使在ASML宣布恢复光刻机供应之后，国内企业依然支持上海微电子的发展，并且表态愿意采购国产光刻机，显然这一次让美国失望了，想方设法限制发展，没想到最终却起到了反作用。



虽然目前ASML已经制造出了更为先进的EUV光刻机，但其实际用途并没有28nm的DUV光刻机来的广泛，利用28nm的DUV光刻机能够完美的生产出14nm以上的芯片，这部分的需求已经能够满足全球90%的需求了，因此只要上海微电子能够制造出28纳米的国产光刻机，对于中国来说是具备重大意义的。

ASML沉不住气了ASML负责人之前多次表态：“愿意供应光刻机给中国，就算是尖端EUV光刻机也不例外。”但显然对于光刻机的自由出货，是不受他们自己控制的，想要出口必须获得美国的相关授权。



一旦上海微电子完成光刻机的国产化，他们的市场份额将会被划分，而中国市场对于光刻机的需求量又是最大的，显然ASML这一次也急了，在中芯国际恢复成熟工艺的授权之后，他们随即送上了一份12亿美元的光刻机合同，据悉在价格上还有着很大的优势。

ASML不断压低价格，对于国产光刻机的发展并不是好事，他们的目的只有一个，那就是压垮国内光刻机产业的发展，从而巩固自身的垄断地位，在经历了华为的事件之后，国内的企业逐渐摒弃了“商人思维”，不再被他们的陷阱所“诱惑”。



因为国内企业明白一旦错过了这一次的最佳时机，让欧美的企业重新建立起了垄断优势，那到时候我们将付出更为惨痛的代价，有钱都买不到的案例将重新上演，并非他们心软了，而是想彻底击垮我们的最后防线。

国产芯片即将崛起在意识到半导体行业发展的重要性之后，各大科技企业纷纷开启了对于半导体领域技术的研发，相关限制并没有压倒华为，反而让中国的企业彻底醒悟了，在相关限制的连锁反应之下，损失最大的并非中国企业，反而是美国的芯片企业，之后美国的科技企业需要向华为缴纳巨额的5g专利费，这都是他们咎由自取。



目前全球半导体格局已经发生了变化，美国此前绝对的领先优势也因此被打破，各个国家都在想着建立“去美化”的生产线，而对于国内来说更是大动作不断，在集成电路学科被纳入一级学科之后，各大高校纷纷开设相关专业培养人才，而中科院也进入到了光刻机的研发行列，国产芯片未来可期！ 阅读原文