即将下线的国产光刻机 中国院士却罕见泼冷水(组图)

芯片是一个国家科技发展的基础，但同时芯片的制造也是最为复杂的工业环节，集结了全球最为顶尖的技术和设备，目前我国也实现了大量的技术突破，在很多单项技术上甚至已经达到了国际顶尖水平，但是在制造芯片的重要设备光刻机上，我们却始终无能为力，这也极大限制了国内芯片行业的发展。

荷兰的ASML是目前唯一有能力生产尖端光刻机的企业，可以说完全垄断了全球市场，而目前市面上还在使用的有两种光刻机，其一就是相对落后的DUV深紫外光刻机，还有就是用于高端芯片制造的EUV极紫外光刻机，目前我们能够进口的只有DUV光刻机，对于先进的EUV光刻机国内一台都没有。



国产光刻机即将迎来组装下线

目前在全球范围内，已经有四家企业能够制造光刻机，而中国的上海微电子就是其中之一，但其中也只有荷兰的ASML有办法制造出EUV光刻机，上海微电子经过数十年的努力研发，目前占据了国内国产光刻机80%以上的市场。



目前上海微电子已经能够量产用于生产90纳米芯片的光刻机，近些年来他们不断取得了技术突破，直接将制造工艺由90nm提升到了28nm，根据官方透露的消息来看，这一台曝光精度达到28nm的光刻机，也即将迎来组装下线。

而这台28nm的光刻机也属于DUV深紫外光刻机的范畴，此前英特尔就是利用这台光刻机，实现对于10nm芯片的生产制造，而作为全球第一大芯片代工厂台积电，此前更是利用类似的光刻机实现了对于7nm芯片的制造。



一旦上海微电子成功实现28nm DUV光刻机的组装下线，那么对于国产芯片的发展拥有着极大的意义，可以很好地帮助国内打造一条完全自主化的28nm生产线，而目前14nm和28nm的芯片已经能够满足国内90%的需求了，今后如果能够实现对于10nm以及7nm芯片的自主化，高度依赖美国芯片也将成为过去式。

国内院士却罕见的“泼冷水”

上海微电子的28nm光刻机即将迎来组装下线，本该是迎来举国欢腾的时刻，没想到国内的院士吴汉明却罕见的“泼冷水”，其表态：“EUV光刻机集结了全球最为顶尖的科学技术，像美国的光源、德国的光学系统、英国的真空等等，这些技术都是我们目前难以企及的。”



而院士所表达的意思也非常的明显，意思就是目前没有任何一个国家能够独立完成对于光刻机的制造，就算是荷兰的ASML，其超过90%的技术源于进口，这是全球高端科技集结的成果，ASML也仅仅只是完成了一个组装的过程，每年的产量也就几十台而已。

但对于国内院是这样的表态，国人也表达了不一样的看法，很多人都说这是在d对国产光刻机“泼冷水”，这样会极大打击到研发人员的自信心，给人一种感觉就是，就算能够生产出国产的DUV光刻机，想要继续突破EUV光刻机基本上不可能。



院士的发声究竟蕴含了什么意思

也确实吴汉明院士不合时宜的发声，很容易引起国人的误会，其实他也并非像国产光刻机“泼冷水”，主要还是在强调供应链的重要性。因为尖端的EUV光刻机所需要用到的尖端技术太多了，一旦有一个环节出问题就不可能完成组装，其实他主要强调的是全球供应链关系的重要性，国内的厂商也要参与到其中，否则一切的努力都将白费。



虽然在相关限制之下，国内的企业很难寻求到国际合作，但我们不能放弃一丝的希望，在整合国内供应链技术的同时，可以通过分工合作以及流水线的方式，加速技术突破。

毕竟对于光刻机的制造，单纯依靠一家企业是很难完成的，虽然目前上海微电子有办法制造出深紫外DUV光刻机，但很难保证对于下一代的光刻机研发能够顺利进行，因此对于院士的发声，也并非完全是在“泼冷水”，更多的是想让国内的企业认清事实，更好的抓住重点去发展 阅读原文