2纳米芯片中国成功破冰 中科院技术全球首创(组图)

从2018年末荷兰ASML光刻机公司工厂的一场火灾开始，中芯国际的光刻机进口之路开始波折起伏，其花费近8.2亿购买的一台EUV深紫外光刻机，是否会延迟交付我们不得而知。但经过一整年时间，荷兰出口EVU光刻机到中国的许可证由于到期，到现在也迟迟没有续期，导致EVU光刻机交付进一步推迟。而中芯国际制造7纳米芯片所用的关键设备，EVU光刻机则是重中之重，可以说没有这台EVU光刻机， 中国整个7纳米半导体的研发进程将会受阻。难道中国赶超美韩高精度、先进半导体芯片的脚步将会止步于此吗？



出品|国器

中芯国际14纳米芯片已经量产下一代制程工艺也在研发当中

根据中芯国际对外公开的财报显示，国内首条14纳米芯片生产线在上海已投入使用，中国14纳米级芯片已经突破量产，而能耗下降20% 、性能提高10%的12纳米级芯片订单已经开始导入，各种现象表示中芯国际已经开始了下一代芯片半导体的研发进程。在7纳米以上的光刻机，ASML公司一直向我国正常供应。目前ASML公司在中国的光刻机市场正在快速崛起，其占全球的市场份额约19%，超过美国16%的份额，可以说中国的光刻机市场是ASML公司不可忽视的，这些因素都关系着双方的未来。



不同纳米级的光刻机决定了芯片的制造精度其功能也受此影响

一根细丝千分之一的机内运行误差，数万个高精度部件，上千万行计算机代码共同构成了一个运行系统，这就是光刻机——被业内人士誉为半导体行业皇冠上的明珠。芯片制造中最为关键的一步就是光刻，其具体功能就是将设计师研发的芯片线路和功能区，通过光刻机的高精度运行，刻在一片圆形硅晶片面上，这些线路就是设计师所规划的芯片运行指令。所以不同纳米级的光刻机决定了不同精度芯片的制造。中国想要攻克7纳米级芯片，必须首先研发出7纳米级的EVU光刻机。



中国国内规模庞大的芯片生产依赖高精度的EUV光刻机

而目前中国拥有的光刻机精度仅能达到45纳米，就连28纳米级我们也正在研发当中，而EVU高精度光刻机的研发更上难上加难。荷兰ASML公司早在20年前就启动了EVU光刻技术的研发工作，而直到去年全球首款7纳米EVU光刻机才正式投入商用。属于第五代光刻机的EVU深紫外光刻机，放眼全球仅荷兰一家掌握制造工艺。目前中国芯片的制造已经逐渐走在各国前列，已经有超1.5万亿的投资落在12英寸的晶圆生产上，不仅如此中国高精度芯片的研发同样处于全球前列，所以对光刻机的需求也是迫在眉睫。



中国近日提前成功攻克了2纳米芯片研发制造的关键技术

就在全球处于7纳米芯片的进一步研发制造时，近日中科院成功攻克了2纳米级芯片所需的关键技术——垂直纳米环栅晶体管，为今后我国2纳米级半导体的研发提前打下了基础，堪称全球首创。从去年台积电攻克3纳米环栅晶体管开始，中国首次在高精度芯片的技术研发上走在世界前列。2纳米芯片的制造生产以及将于2024年投入，而此次2纳米关键技术的攻克破冰，称得上是意义重大。如果ASML公司的EVU光刻机能成功交付，相信中国的芯片研发制造定能走得更远。 阅读原文